化学和物理气相沉积（PVD和PECVD ）是环境友好型真空沉积技术，将材料沉积在待处理零件的表面。这能够获得有以下特征的涂层：

- 厚度范围可以从几纳米到几十微米
- 硬度范围从1000至4000Hv

根据所选择的涂层，可以授予已处理零件以下特性：
- 摩擦方面：低摩擦系数
- 机械方面：很大的硬度
- 电磁屏蔽
- 光学特性
- 电气连续性
- 抗菌性
- 装饰性

该方法在我们创建的等离子区的真空壳体内实施。

赫福集团主要使用3种方法创建等离子区并建造很多涂层：

- PEMS™:PEMS™ 工艺可以完成非常紧密的摩擦用途的涂层。赫福集团尤其会将该工艺用于完成低摩擦系数的硬涂层或超硬涂层。另外，PEMS™工艺可以根据应用情况改变沉积的硬度、密度和强度。

- CAM™:位于真空技术的前沿，CAM™技术是一次真正的飞跃，它可以沉积极端低温下、摩擦系数非常小的坚硬涂层。

- M-ARC™:该工艺是传统电弧蒸发技术的发展。它极大地减少了通常与该类型涂层相关的水滴。